批准新建二维线纹基准装置

近日， 批准新建二维线纹基准装置，填补我国校准影像测量仪、光学显微镜等光学精密测量设备和高精度光刻机母版制造设备的二维线纹标准器的测量能力空白，核心技术实现完全自主可控。

二维线纹基准装置测量范围为320mm×320mm，最优测量不确定度仅28nm，相当于头发丝直径的1/2500。该基准装置主要特点是大范围、微尺寸、多参量，可为二维尺寸、位置及形状提供量值溯源，达到国际先进水平。该基准装置有助于解决亚微米、纳米级光刻机母版的二维线纹“测不准”的难题，为电子通信、轨道交通、航空航天、医疗设备等高端制造领域精密加工和测量设备提供技术支撑和保障。